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  • 微納電路化相淀積系統(tǒng)PECVD200 產(chǎn)品型號(hào):PECVD200
    微納電路化相淀積系統(tǒng)
詳細(xì)內(nèi)容

基本參數(shù)

1、淀積尺寸:8吋及以下;

2、淀積材料:SiO2、Si3N4、非晶硅、碳化硅等;

3、加熱溫度:≤300℃;

4、淀積速率:200300 A°/min;

5、淀積不均勻度:≤±2%;

6、操作方式:自動(dòng)控制方式;

7、系統(tǒng)總控:人機(jī)界面及控制程序;

8、電源:220VAC/50Hz,10KW

9、機(jī)器重量:800kg

10、機(jī)器尺寸: D810mm× W1820mm×H1850mm

 

電源及沉積室

1、射頻電源:13.56MHz,功率1.0KW;

2、沉積室規(guī)格:雙室,Φ400x150mm,不銹鋼材質(zhì),開門結(jié)構(gòu);

3、真空度:經(jīng)烘烤除氣后≥3.0×10-5 Pa

4、抽氣時(shí)間:大氣壓 ~ 5*10-4 Pa35min。

 

測(cè)量系統(tǒng)

1、真空計(jì):數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)1套,測(cè)量低真空和高真空;

2、帶四路質(zhì)量/流量控制器。

 

冷卻系統(tǒng)

1、配備冷卻水循環(huán)系統(tǒng):水冷機(jī)設(shè)有水流報(bào)警系統(tǒng);

2、保護(hù)系統(tǒng):對(duì)水壓低等情況進(jìn)行報(bào)警并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)。

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